OPIE'14 赤外・紫外応用技術展に「赤外線透過絶縁保護カバー(GAT)」出展
2014.4.17
今後益々拡大する赤外線と紫外線の応用技術を紹介する展示会
「赤外・紫外応用技術展2014」に、弊社製品「赤外線透過絶縁保護カバー(GAT)」を出展いたします。
赤外線透過絶縁保護カバー(GAT)は、赤外線カメラでの撮影対象物の保護カバー等にご活用いただける「可視光線と赤外線を同時に透過する特殊樹脂製透明カバー」で、世界に類を見ない機能性の高さから多数お引き合いをいただいている注目商品です。
透明アクリル、ポリカーボネートとの違いが明確にわかるデモンストレーションを用意しておりますので、この機会に是非ご覧ください。
| 会期 | 4月23日（水）～25日（金） 10：00～17：00 |
|---|---|
| 主催 | 日本フォトニクス協議会 |
| 会場 | パシフィコ横浜 展示ホールB, C 会場へのアクセス（展示会公式サイトへのリンク）
＜みなとみらい線＞ みなとみらい駅より徒歩3分 ＜JR線・市営地下鉄＞ 桜木町駅より徒歩12分、バスで7分、タクシーで5分 横浜駅よりタクシー7分 |
| ブース | No. D-12 |
| 入場料 | 来場事前登録および招待券持参、学生証提示で無料 （上記以外：\2,000）
事前登録を行う前に（展示会公式サイトへのリンク）
|
