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半導体製造プロセスで用いられる超純水の製造において、圧倒的な納入実績を誇りユーザーから絶大な信頼を獲得 
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半導体製造プロセスで用いられる超純水の製造において、圧倒的な納入実績を誇りユーザーから絶大な信頼を獲得 

電子産業のこのような課題に応えています。

超純水中の微粒子を低減させたい

半導体製造工程で使用される超純水は、
非常に高度なクリーン度が求められる

半導体ウェハーに接する超純水に微粒子、
TOC、金属イオンが一定量含まれると
半導体製品化時に不良が発生してしまう

電子産業におけるマイクローザの強みや特長

  • ダブルスキン構造による堅牢な微粒子除去性
  • 両端集水構造によるモジュール内の圧力損失の低減
  • 世界中数多くの半導体工場における採用実績

電子産業の主要製品

OLT-6036シリーズ

先端LSI向け超純水製造に適した高品質UF膜モジュール

OAT-6036シリーズ

次世代LSI向け超純水製造に適した微粒子除去性能を高めた*UF膜モジュール*当社従来品(OLTシリーズ)比較

電子産業の導入事例

  • 台湾某社

大手半導体メーカーを中心に、マイクローザは世界中の半導体工場で超純水を供給しています

  • 処理目的:超純水サブシステムのファイナルUF処理
  • 製品名:OAT-6036HA、OLT-6036HA
  • 導入場所:台湾

 

微細化を追求する半導体業界に対し、マイクローザは信頼性の高い超純水の供給を継続しています。

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