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<展示会レポート>Designer Forum New York
- 展示会
- Designer Forum New York
- 開催日
- 2019年1月19日~2019年1月21日
- 会場(ブースNo)
- アメリカ/ニューヨーク/The London Hotel
- 出展内容
- ライニング(裏地)用生地
1/19~21日の3日間、米国ニューヨーク市 The London Hotel にて開催されたDesigner Forum New Yorkに初出展しました。
Designer Forum New Yorkはホテルの2フロアを貸し切り開催される、テーラー分野向け限定の展示会で、高級表地メーカーや副資材問屋などが出展しており、旭化成は日本企業としては唯一の出展となりました。 近年、引き合いが増えているテーラー(Made to Measure)分野に向け、日本産のベンベルグのライニング(裏地)用生地を紹介できました。
コットンリンター由来であるベンベルグの原料紹介をおこない、またNew York Timesが撮影・編集したイタリアのアパレルブランド Kitonとの共同プロモーション動画もご覧いただきました。長年プレシャスなものづくりを続ける同ブランドでベンベルグ裏地が重要な要素として使用されていることを紹介しました。