微細回路形成の
新たな選択肢
TAシリーズは、L/S=2/2 µm以下という微細パターン形成を実現します。液状レジストの代替としてDFRを使用することで、簡便な工程設計や表裏両面同時加工が可能。ステッパー露光とLDI露光の両方式に対応。次世代、次々世代のパッケージ基板やインターポーザの回路形成に貢献します。
TAシリーズの詳細
特長:L/S=2/2 µm以下の微細配線形成をサンフォート™の技術を結集し実現
TAシリーズは、次世代・次々世代の半導体パッケージ向け超微細配線ニーズにお応えするべく、これまでサンフォート™で培った技術を結集して開発された感光性ドライフィルムレジストです。液状ではなく、ドライフィルムタイプであることから、両面同時ラミネートによる両面同時加工、簡便な工程設計などに貢献します。ステッパー露光とLDI露光の両方に対応し、お客様のニーズに幅広くお応えいたします。
これまでにない微細回路形成力:TAシリーズは、L/S=2/2 µm以下の極微細なパターン形成を可能にし、次世代半導体の微細配線を実現します。
複数の露光方式に対応:ステッパー露光とLDI露光の両方に対応。柔軟な設計変更が必要なプロトタイプ製造から、大量生産まで幅広くカバーします。
液体レジストの代替可能性:従来の液体レジストに比べて、安定性が高く、取り扱いやすいドライフィルムでの対応が可能です。
ドライフィルムによる超微細配線:ラミネートによる両面同時加工、膜厚調整不要などの液状レジストにはない扱いやすさ。
用途
インターポーザ:次世代、次世代の大型パネル型インターポーザーに対応。大面積かつ両面型パネルでの微細配線を形成。
先端パッケージ基板:AIチップや高速通信デバイスの基板に求められる微細配線の形成
高周波デバイス:5G通信や自動運転向けの高周波部品に必要な精密パターン形成。
センサーデバイス:IoTやウェアラブルデバイスに搭載される小型・高精度センサーの回路形成。
ガラスコア基板:次世代半導体パッケージや高速通信デバイスへの適用が期待されている「ガラス基板での精密パターン形成」を実現。
レジストパターン
TAシリーズの高精度なパターン形成を示す電子顕微鏡画像です。
ご相談・サンプルのご依頼はこちらから
極めて微細なパターン形成のソリューションをお探しですか?サンフォート™の「TAシリーズ」を、是非ご検討ください。試作依頼やサンプルのご請求は、こちらのリンクからお問い合わせいただけます。