适用于 LDI 曝光的下一代感光干膜抗蚀剂
ADP&DA 系列是一款适用于 LDI（激光直接成像）曝光的感光干膜抗蚀剂（DFR）
ADP&DA 系列详情
特性：高分辨率
兼容 LDI 曝光：通过激光直接成像，无需使用光掩模即可实现灵活图形形成。对定制需求、原型开发和设计变更具有优良适应性，交付周期短。
良好矩形度：抗蚀图形边缘平直，底部扩展极小，电镀后可获得高品质铜电路，确保优良电气特性和信号传输稳定性。
良好耐化学性：在 MSAP/SAP 电镀工艺中表现出优异耐化学性，减少制造过程中抗蚀剂损伤和缺陷。
高分辨率与高附着力：具备高分辨率和对基板的高附着力，即使复杂设计也能实现高精度图形形成，满足精细电路需求。
丰富产品线：产品覆盖注重生产效率的大批量应用及高分辨率等特殊需求，可根据客户制造要求进行优化。
应用领域
SUNFORT™ ADP&DA 系列适用于服务器、AI 设备及移动终端等基板制造。在需灵活且高精度图形形成的 LDI 曝光中，其良好耐化学性和附着力提升了制造过程的稳定性和产品可靠性。
FC-BGA 类型（适用于高性能服务器与 AI）：适用于对高密度、精密电路形成有需求的服务器和 AI 设备。LDI 技术带来高设计灵活性，满足复杂规格要求。
FC-CSP 类型（适用于移动及终端设备）：专为紧凑型高性能器件基板设计，尤其适用于智能手机、PC 等应用，支持高效且精确的图形形成。
抗蚀图形
此为 ADP&DA 系列高精度图形形成的电子显微镜图像。
