厚膜形成创新
CX 系列是一款兼具高分辨率与厚膜形成能力的感光干膜抗蚀剂。
CX 系列详情
特性：兼具高分辨率与厚膜形成
该系列实现了高纵横比（抗蚀剂厚度/开口直径）和良好耐电镀液性，可形成 200 µm 及以上的膜厚，支持 PoP 结构中铜柱和铜凸点所需的高纵横比电镀工艺。
高分辨率与高纵横比：CX 系列兼具精细结构的高分辨率形成与厚膜形成能力，可实现铜柱制造，助力三维电路形成，支持扇出等三维集成方式。
厚膜形成效率：单次层压即可形成 199 µm 及以上厚膜，无需液态抗蚀剂多次涂布工艺。简化制造流程有助于提升生产效率并降低工艺成本。
良好耐化学性：优良耐化学性可防止抗蚀剂被攻击，提升制造稳定性。
应用领域
CX 系列在铜柱、扇出结构等先进器件制造中提供高可靠性。
铜柱形成：在高性能电子器件铜柱形成中，CX 系列实现精确且三维的结构，支持 PoP 等三维结构中的高密度三维电连接。
抗蚀图形
此为 CX 系列高精度图形形成的电子显微镜图像。
评估协作单位：ORC MANUFACTURING CO., LTD.（曝光）/ JCU CORPORATION（电镀后观察）
