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| ※ペリクル… |
半導体や液晶パネルの露光工程において、微細パターンが描かれたフォトマスクに塵が付着しシリコンウェハーやパネル基板に結像するのを防ぐために、フォトマスクのカバーとして使用される防塵保護膜。 |
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| 1. 背景 |
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当社は、液晶パネルフォトマスク用ペリクルについて世界一のシェアを持ち、最大サイズである第10世代対応ペリクルの唯一の供給メーカーです。また、当社は、半導体フォトマスク用ペリクルについても、従来型のg線i線露光用ペリクルから半導体の配線パターンの微細化ニーズに対応したKrF（フッ化クリプトン）露光用ペリクルまで、広く顧客ニーズに対応できる製品ラインナップを取り揃えています。
一方、近年の半導体製造工程では、超微細加工技術が高度化する中で、露光光源も可視光線であるg線、紫外線のi線から、より微細なパターンを転写することが可能となるKrF、ArFといったレーザー光の短い波長の光源へと移行してきました。
当社では、こうしたニーズに対応するため、今回ArF露光対応ペリクルを上市し、全露光光源対応のラインナップをもつ国内唯一のサプライヤーとなりました。更に、宮崎県延岡市の半導体用途向けペリクル製造設備の生産能力を、生産技術の革新により従来比倍増の22万枚/年とすることにより、更なる安定供給体制を整えました。
当社は、今回のArF露光対応ペリクルの上市および生産能力増強により、高度化するIT機器に対応するため今後とも最先端の製品供給を行い、顧客ニーズに応え情報化社会の進展に貢献していきます。 |
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| 2. 今回上市のArF露光対応ペリクルの特長 |
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優れた耐久性と高い透過率を得られる膜設計 |
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高いクリーン化技術により、異物を最小限に抑制 |
| (3) |
リソグラフィ工程の歩留まり向上に貢献 |
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| 3. 生産設備概要 |
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| (1) |
所在地 |
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宮崎県延岡市 |
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生産内容 |
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半導体用途ペリクル |
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設備能力 |
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22万枚／年（能力増強後） |
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操業計画 |
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2010年10月 |
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| 以上 |
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