電子産業業界ソリューション

マイクローザ®は半導体や液晶ディスプレイの製造における超純水の品質向上とコスト削減を両立。さらに排水再利用による水使用量の削減にも活用されています。

超純水生成と水再生を
最適化する新たな選択肢

私たちは高純度の超純水供給と水リサイクルを通して、電子産業業界に貢献しています。マイクローザ®は「ダブルスキン構造」と「両端集水構造」により、超純水のクリーン化とコスト削減を両立。さらに排水リサイクルにも活用され、水資源の最適化にも貢献しています。

超純水製造に欠かせない、高いパーティクル除去性能

半導体製造工程で使用される超純水には非常に高い純度が求められますが、パーティクルなどの不純物が混入すると、半導体の歩留まりが低下し、製品品質に影響を与えるという課題があります。同様に、液晶ディスプレイの製造工程でも、厳格に管理された超純水が不可欠です。

こうした課題に応えるため、マイクローザ®は独自のダブルスキン構造を採用し、強力なパーティクル除去性能を実現しています。これにより、微細な粒子や不要な成分を効率的にろ過し、超純水中の不純物を低減します。

ダブルスキン構造などのマイクローザ®の技術について詳しく見る

モジュール内圧損を低減し超純水製造のコストを削減

従来のろ過モジュールでは圧力損失（圧損）が大きく、ポンプ負荷の増大、エネルギーコストの上昇、生産効率の低下といった課題がありました。この問題を解決するため、マイクローザ®は「両端集水構造」を採用。モジュール内の水の流れを最適化することで圧損を大幅に抑制し、安定稼働と省エネルギー運転を実現しました。

半導体製造の排水を再利用し、水使用量を削減

半導体業界では、水資源の有効活用が重要な課題となっており、排水の再利用による水使用量の削減が求められています。マイクローザ®は、その高性能な除去機能を活用し、半導体製造における排水の再利用を可能にします。実際に中国の半導体メーカーでは、バックグラインド(BG)やダイシング工程など、後工程で生じる排水の再利用を目的に生産ラインへUNA-620Aを導入。濁度が1,000NTUを超える排水でも、シンプルなUFろ過のみで水の再利用を実現しています。

バックグラインディングやダイシング工程で生じた排水をマイクローザ®でろ過することで、70～90％の高い水回収率を実現。