超純水の製造

半導体製造の現場では、使用される超純水の純度が半導体デバイスの品質を大きく左右します。マイクローザ®は不純物を極限まで除去することが求められる現場で広く採用されています。

超純水の製造

半導体の品質を
根本から支えます

マイクローザ®は、半導体製造に求められる高品質な超純水製造ソリューションを提供します。パーティクルなどの不純物を排除するダブルスキン構造による高精度なろ過と、両端集水構造により実現する圧損低減による省エネが特長です。

半導体製造時に求められる高品質な超純水

半導体製造工程では、超純水の純度が製品品質を左右します。不純物が含まれると製品不良の発生リスクが高まるため、パーティクルなどの不純物を排除する必要があります。

マイクローザ®は、このような超純水製造の課題を解決する最先端技術を結集した中空糸膜製品です。世界中の数多くの半導体工場で採用されています。

堅牢な微粒子除去性能 (ダブルスキン構造)

マイクローザ®は独自の「ダブルスキン構造」を採用しています。この構造は、中空糸膜の内側と外側にそれぞれに緻密層を形成することで、高い分離性能と優れた耐久性を実現しています。

ダブルスキン構造などのマイクローザ®の技術について詳しく見る

外皮と内皮の二重構造を採用したマイクローザ®の電子顕微鏡画像

外皮と内皮の二重構造を採用したマイクローザ®の電子顕微鏡画像

モジュール内圧損の低減効果 (両端集水構造)

マイクローザ®は「両端集水構造」という独自設計を採用しています。この構造による効果は、モジュール内の圧力損失(圧損)を大幅に低減することです。

また、内部の差圧が減少することで、全体に水が行き渡り易く、デッドスペースを生じ難いことで、モジュール内部の高いクリーン性を実現します。

超純水用途製品について詳しく見る

マイクローザ®導入の検討に関するお役立ち情報