超純水の製造

半導体製造の現場では、使用される超純水の純度が半導体デバイスの品質を大きく左右します。マイクローザ®は不純物を極限まで除去することが求められる現場で広く採用されています。

超純水の製造

半導体の品質を
根本から支えます

マイクローザ®は、半導体製造に求められる高品質な超純水製造ソリューションを提供します。パーティクルなどの不純物を排除するダブルスキン構造による高精度なろ過と、両端集水構造により実現する圧力損失の低減と省エネルギー化が特長です。

半導体製造が求める高品質を実現した超純水

半導体製造工程では、超純水の純度が製品品質を左右します。不純物が含まれると製品不良の発生リスクが高まるため、パーティクルなどの不純物を排除する必要があります。

マイクローザ®は、このような超純水製造の課題を解決する旭化成の最先端技術を結集した中空糸膜製品です。世界中の数多くの半導体工場で採用されています。

マイクローザ®の堅牢な微粒子除去性能 (ダブルスキン構造)

マイクローザ®は独自の「ダブルスキン構造」を採用しています。この構造は、中空糸膜の内側と外側にそれぞれに緻密層を形成することで、高い分離性能と優れた耐久性を実現しています。

ダブルスキン構造などのマイクローザ®の技術について詳しく見る

外皮と内皮の二重構造を採用したマイクローザ®の電子顕微鏡画像

外皮と内皮の二重構造を採用したマイクローザ®の電子顕微鏡画像

モジュール内圧損の低減効果 (両端集水構造)

マイクローザ®は「両端集水構造」という独自設計を採用しています。この構造の最大の特長は、モジュール内の圧力損失(圧損)を大幅に低減することです。

従来型の構造では圧損が大きくなると、以下の問題が生じていました:

  • ポンプ負荷の増大
  • エネルギー消費量の増加
  • 生産効率の低下
  • 運転コストの上昇

マイクローザ®の両端集水構造は、モジュール内の水の流れを最適化することでこれらの問題を解決し、クリーン化とコスト削減を同時に実現します。

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