- 電子産業
- 分離技術
半導体製造プロセスで用いられる超純水の製造において、圧倒的な納入実績を誇りユーザーから絶大な信頼を獲得
電子産業のこのような課題に応えています。
超純水中の微粒子を低減させたい
半導体製造工程で使用される超純水は、
非常に高度なクリーン度が求められる
半導体ウェハーに接する超純水に微粒子、
TOC、金属イオンが一定量含まれると
半導体製品化時に不良が発生してしまう
半導体工場の排水を再利用し、
水使用量を削減したい
電子産業におけるマイクローザの強みや特長
- ダブルスキン構造による堅牢な微粒子除去性
- 両端集水構造によるモジュール内の圧力損失の低減
- 世界中数多くの半導体工場における採用実績
電子産業の主要製品
OLT-6036シリーズ
先端LSI向け超純水製造に適した高品質UF膜モジュール
OAT-6036シリーズ
次世代LSI向け超純水製造に適した微粒子除去性能を高めた*UF膜モジュール*当社従来品（OLTシリーズ）比較
マイクローザ UF UNAシリーズ 水処理用加圧膜
電子産業の導入事例
- 台湾某社
大手半導体メーカーを中心に、マイクローザは世界中の半導体工場で超純水を供給しています
- 処理目的：超純水サブシステムのファイナルUF処理
- 製品名：OAT-6036HA、OLT-6036HA
- 導入場所：台湾
微細化を追求する半導体業界に対し、マイクローザは信頼性の高い超純水の供給を継続しています。
- 中国某社
半導体の超純水製造以外にも、半導体後工程の研磨、切削廃水用途でも活躍しています
- 処理目的：Back Grinding (BG) 及び、Dicing 工程の廃水再利用
- 製品名：UNA-620A
- 導入場所：中国
濁度が1,000 NTUを超える廃水に対し、シンプルなUFろ過だけで、水の再利用が可能です。
